Réservoir de bouteilles d'oxygène et de gaz O2, 40l, 50l, 150bar, haute pureté, 5n, 99.999%, vente en gros
Présentation Description du produit Bouteille de gaz sans soudure haute pression de 40 L certifiée ISO/DOT/TPED/monoxyde;
Overview
L'oxygène gazeux de haute pureté est principalement utilisé pour l'oxydation thermique, la diffusion, le dépôt chimique en phase vapeur, la gravure au plasma et d'autres processus de dispositifs semi-conducteurs. Il peut également être utilisé pour la fabrication de fibres optiques et de tubes image couleur et comme gaz standard, gaz correcteur et gaz zéro. Il est utilisé comme source d’oxydation et réactif pour produire de l’eau de haute pureté. Pour les dispositifs à effet de champ MOS, la couche d'oxyde doit être assez dense. L'oxydation sèche avec de l'oxygène de haute pureté peut répondre aux exigences de production avec une structure compacte, moins de charge positive et une tenue à haute tension. Mélangé au tétrafluorure de carbone, il peut être utilisé pour la gravure plasma.
Informations de base.
Numéro de modèle. | 50L 200bars |
Point de fusion | -218,4 |
Couleur du cylindre | Couleur verte ou personnalisée |
Apparence | Incolore |
Marque | Forterra |
Point d'ébullition | -183 |
Pression de service | 150 bars/200 bars |
Pression d'essai | 250 bars/300 bars |
Norme de cylindre | ISO9809-3 ou ISO9809-1 |
Nom du produit | Oxygène gazeux de haute pureté |
Forfait Transport | Bouteille de gaz |
spécification | 50L 200bars |
Marque déposée | FORTERRA |
Origine | Chine |
Code SH | 7311009000 |
Capacité de production | 5000000/an |
Description du produit
Description du produit
Bouteille de gaz sans soudure haute pression 40L certifiée ISO/DOT/TPED/monoxyde de carbone/oxygène/argon/bouteille de CO2
GAZ OXYGÈNEL'oxygène gazeux de haute pureté est principalement utilisé pour l'oxydation thermique, la diffusion, le dépôt chimique en phase vapeur, la gravure au plasma et d'autres processus de dispositifs semi-conducteurs. Il peut également être utilisé pour la fabrication de fibres optiques et de tubes image couleur et comme gaz standard, gaz correcteur et gaz zéro. Il est utilisé comme source d’oxydation et réactif pour produire de l’eau de haute pureté. Pour les dispositifs à effet de champ MOS, la couche d'oxyde doit être assez dense. L'oxydation sèche avec de l'oxygène de haute pureté peut répondre aux exigences de production avec une structure compacte, moins de charge positive et une tenue à haute tension. Mélangé au tétrafluorure de carbone, il peut être utilisé pour la gravure plasma.
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